在淬火中，高頻感應(yīng)加熱設(shè)備可以淬透層很淺，而中頻的淬透層較深，造成這種情況出現(xiàn)的原因是什么？用戶常會(huì)問我們公司是因?yàn)楦哳l的加熱速度快還是高頻感應(yīng)就只能加熱較淺層。還有高頻中頻的溫度精確控制方面哪個(gè)更好?這里我公司將原因歸納如下：

     高頻的電磁波有趨膚效應(yīng)，所以高頻只用于表層淬火，相對(duì)的中頻淬火層較深，加熱溫度由產(chǎn)生高頻的時(shí)間控制。

     當(dāng)交變電流通過導(dǎo)體時(shí)，電流密度沿導(dǎo)體截面的分布是不均勻的，，導(dǎo)體表面電流密度最大，中心電流密度最小。交變電流的頻率愈高，這種現(xiàn)象就愈明顯，稱之為集膚效應(yīng)。所以高頻比中頻加熱層淺。

 這就是高頻感應(yīng)加熱設(shè)備可以淬透層很淺，而中頻的淬透層較深的原因。

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